1．降低孔隙率，晶核的形成速度大于成长速度,促使晶核细化。
2．改善结合力，使钝化膜击穿,有利于基体与镀层之间牢固的结合。
3．改善覆盖能力和分散能力，高的阴极负电位使普通电镀中钝化的部位也能沉积,减缓形态复杂零件的突出部位由于沉积离子过度消耗而带来的“烧焦”“树枝状”沉积的缺陷，对于获得一个给定特性镀层(如颜色、无孔隙等)的厚度可减少到原来1/3~1/2,节省原材料。
4．降低镀层的内应力，改善晶格缺陷、杂质、空洞、瘤子等,容易得到无裂纹的镀层，减少添加剂。
5．有利于获得成份稳定的合金镀层。
6．改善阳极的溶解,不需阳极活化剂。
7．改进镀层的机械物理性能，如提高密度降低表面电阻和体电阻,提高韧性、耐磨性、抗蚀性而且可以控制镀层硬度。
传统的电镀抑制副作用的产生、改善电流分布、调节液相传质过程、控制结晶取向显得毫无作用，面对络合剂和添加剂的研究成了电镀工艺研究的主要方向。纳米开关电源解决了传统整流器存在的缺陷。
8．提高产品成品率、产品质量。

1体积小、重量轻、效率高，控制精度高。
2适用于有色金属及合金类等小工件镀种，渗透力强，附着力好，可有效提高镀件表面光亮度。
3 保护功能齐全，具输出过流、过热保护功能。功率因数高，对电网污染小，无干扰。
4 结构上采取了防盐雾酸化的措施，增加电源在恶劣环境下使用的寿命。
指数参数：
1输入电压范围：单相：220VAC± 20%         
2输出电流稳定度：≤2%
3输出电压稳定度：≤1%
4整机效率：≥80%
5功率因数：≥0.9(STM系列)
6启动延长时时间：≤10S
7逆变频率：38KHz± 4KHZ(800A-1000A)
8限流值：Io +10A-50A( Io为额定电流)
9限压值：1.01-1.03Vo( Vo为额定电压)
10冷却方式：风冷